光酸（PGA）又称光致产酸剂，主要用于在化学放大型体光刻胶中，包括KrF光刻胶（聚对羟基苯乙烯树脂体系）和ArF光刻胶（聚甲基丙烯酸酯树脂体系）、EUV光刻胶，常温下为固态。
　　光酸（PAG）产品类型众多，主要企业都开发了不同种类的产品，例如，东洋合成工业株式会社光酸（PAG）产品有TPS-TF、DTBPI-PFBS、TPS-CS、TPS-PFBS等多个种类；贺利氏（Heraeus）开发了一系列适用于i线、g线、ArF等光刻胶产品的光酸（PAG），包括NIT、NIN、ILP-110、ILP-118、PA-480、PA-411、PA-528等。
　　近些年，随着供给侧改革政策推进，半导体光刻胶的本土化发展势在必行，良好的市场前景吸引了许多投资者及相关机构对半导体光刻胶产业链的密切关注，光酸（PAG）研究越来越受重视，相关专利不断涌现，如苏州瑞红电子化学品有限公司公布”一种杂环多官光致产酸剂及其制备方法和制得的化学增幅型光刻胶“，该专利解决了传统的光致产酸剂产酸效率低，光子利用率低的问题；宁波南大光电材料有限公司公布”可聚合型含双鎓盐结构的光致产酸剂、制备方法及光刻胶“，该专利适用于多种波长的光源。
　　近年来，国内光酸（PGA）投资项目增多，中节能万润、苏州威迈正在紧锣密鼓的推进光酸（PAG）项目建设。中节能万润目前已经完成了光酸（PAG）的开发，正在展开下游市场推广；苏州威迈韩国子公司具备光酸（PAG）生产能力，目前已经在国内完成了亿元融资，计划在合肥筹建量产工厂，随着前者产品正式上市，以及后者实现本土化生产，中国光酸（PAG）行业企业将面临更激烈市场竞争。
　　全球光酸（PAG）市场具有高度垄断性，由日本和美国企业主导，美国企业主要是贺利氏电子化学材料公司在美国俄亥俄州的生产基地；日本企业主要有东洋合成工业株式会社、FJIFILM和光纯药株式会社、San-Apro株式会社等。其中，东洋合成工业株式会社为全球最大的光酸（PAG）生产厂商，其凭借过去数十年来的技术积累和沉淀，已经构筑起较强的竞争优势，占据60%以上的市场份额。
　　光酸（PAG）主要用于生产半导体光刻胶。虽然中国是半导体光刻胶需求大国，但国内半导体光刻胶研发时间短，国产化程度较低。苏州晶瑞、北京科华等企业虽然实现了g线/i线光刻胶的量产，但在技术积累、产能建设、品牌形象等方面与国际领先企业均有较大差距，国产化率较低。未来随着更多厂家KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后，国产半导体光刻胶国产替代加速推进，将为光酸（PAG）行业带来极大的发展动力。