铌靶材，采用高纯度金属铌（Nb）制造而成的靶材，材料纯度在99.95%及以上。在半导体、消费电子等产业持续快速发展背景下，铌靶材需求量持续上升，行业发展前景广阔。
　　铌，化学符号Nb，属于过渡金属元素，是一种稀有金属，为灰白色金属，高纯铌延展性较高、质地较软，具有高熔点、高抗腐蚀性、高导电性等特点。在全球范围内，铌资源主要分布在巴西，其次是加拿大，巴西铌矿年产量占全球总产量的90%左右。我国铌资源储量少，且提炼难度大，需要依靠进口。
　　以铌矿为原料冶炼后获得氧化铌，再加工为铌锭、铌条等，进一步加工可获得铌靶材。铌靶材作为溅射靶材，在溅射镀膜过程中，铌原子以氧化物的形式沉积在基材表面形成薄膜。
　　铌靶材晶粒尺寸小、再结晶性好、不易与空气中其他物质发生反应，形成的氧化膜质地均匀，具有耐高温腐蚀、抗氧化性强的优点。铌靶材包括平面铌靶材、旋转铌靶材两大类，能够满足不同场景应用需求。
　　平面铌靶材的外形通常为方形、圆形，使用时，铌靶材与背靶连接，材料溅射沉积在基材上形成薄膜，主要应用在半导体器件、光电器件等制造领域。旋转铌靶材的外形通常为圆柱形，使用时，物理旋转使材料均匀沉积在基材表面，主要应用在显示器、太阳能电池板等制造领域。
　　铌靶材是一种重要的薄膜材料，可以广泛应用在光学镜头、触摸屏、集成电路、光纤、光伏电池，以及船舶、化工装备等制造领域，以满足这些产品的耐热性、耐腐蚀性、导电性等性能提升需求。
　　宁夏东方钽业股份有限公司是我国最大的钽、铌产品生产企业，钽、铌产品生产技术达到国际先进水平，具有高纯铌生产能力。2025年1月，东方钽业在回答投资者提问时表示，钽靶、铌靶分别作为半导体溅射靶材和平板显示靶材的重要组成部分，在行业快速增长及国产替代的背景下将迎来快速发展。
   在我国《中央企业科技创新成果产品手册（2022年版）》中，中国有色矿业集团有限公司研制的光学镀膜用铌靶材被列入，产品包括平面铌靶材与旋转铌靶材，材料纯度99.95-99.98%，已经应用在德国莱宝、利达光电、上海承耀、北京华创等企业中。