氮化硅微粉，又称氮化硅粉末、Si₃N₄粉末，指以氮化硅为基材制成的粉末材料。氮化硅微粉具备抗氧化、耐高温、化学稳定性好、摩擦系数低、热膨胀系数小等优势，在航空航天、医药制造、国防军工、半导体制造以及机械加工等领域拥有广阔应用前景。
   氮化硅微粉制备方法包括固相反应法、气相反应法以及液相反应法等。固相反应法可细分为碳热还原二氧化硅法、硅粉直接氮化法以及自蔓延法；气相反应法可分为激光气相反应法、高温气相反应法以及等离子体气相反应法等。等离子体气相反应法（PCVD）采用等离子体产生反应气体，进而制得氮化硅微粉，具备成品质量好、参数易控制等优势，适合进行大规模生产。
    氮化硅微粉作为一种高性能陶瓷粉末材料，在众多领域拥有广阔应用前景，主要包括航空航天、医药制造、国防军工、半导体制造以及机械加工等。在航空航天领域，氮化硅微粉可用于制造航天器热障涂层以及飞机发动机内衬件；在半导体制造领域，其可用于制造高功率半导体封装陶瓷基板；在机械加工领域，其可用于制造模具以及机械密封环等构件。
   目前，受技术壁垒高等因素限制，我国高纯度氮化硅微粉仍依赖进口，日本为我国主要进口国。日本宇部兴产株式会社（UBE）、日本电气化学工业株式会社（DENKA）等为全球知名氮化硅微粉生产商。宇部兴产采用酰亚胺热解法制备氮化硅微粉，产品具备粒径均匀、纯度高等优势。
   我国氮化硅微粉市场主要参与者包括安阳亨利高科实业有限公司、高富高新材料（浙江）有限公司、山东青州微粉有限公司、中科新瓷（重庆）科技有限公司、山东国瓷功能材料股份有限公司等。目前，高富高新正在积极推进高纯高性能氮化硅粉体及器件项目建设，达产后其氮化硅微粉年产量将达到3600吨。
   氮化硅微粉在众多领域需求旺盛，未来伴随下游行业景气度提升，其市场空间将得到进一步扩展。目前，我国高纯度氮化硅微粉仍依赖进口，这是行业发展面临的主要挑战。未来本土企业亟需加大研发投入力度，以提升我国氮化硅微粉技术水平及产品质量。