3D NAND光刻胶，指用于3D NAND制备过程中的光刻胶。3D NAND光刻胶需具备蚀刻抗性好、分辨率高、厚膜涂布性能佳、对曝光光源有较高灵敏度等特点，国防军工、消费电子、数据中心、航空航天以及汽车制造等领域为其终端市场。
国家对于光刻胶行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《产业结构调整指导目录（2024年本）》、《重点新材料首批次应用示范指导目录（2024年版）》、《工业战略性新兴产业分类目录（2023）》、《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展若干政策的通知》等。未来伴随国家政策支持，我国3D NAND光刻胶行业发展速度有望加快。
KrF光刻胶为3D NAND光刻胶代表产品。KrF光刻胶，又称氟化氪光刻胶，具备能快速曝光、耐化学腐蚀、耐湿热、分辨率高等优势，可用于3D NAND芯片的曝光、涂布、蚀刻以及显影工艺中。近年来，随着研究深入，KrF光刻胶技术不断进步，带动其产量及质量持续提升，这将为3D NAND光刻胶行业发展提供有利条件。
3D NAND光刻胶主要应用于3D NAND制备过程中。3D NAND为新一代闪存芯片，具备存储容量大、读写速度快、功耗低等优势，在国防军工、消费电子、数据中心等众多领域应用广泛。随着应用需求增长，3D NAND行业发展空间持续扩展。2024年全球3D NAND市场规模达到近550亿美元，创造历史新高。3D NAND光刻胶可用于3D NAND图案化环节，未来其市场空间将进一步扩展。
全球3D NAND光刻胶市场主要集中于日韩国家，代表企业包括韩国东进化学公司（Dongjin）、日本住友化学株式会社（Sumitomo Chemical）、日本JSR株式会社等。在本土方面，我国3D NAND光刻胶行业起步较晚，但发展势头迅猛，已有多家企业具备其自主研发及生产实力，主要包括恒坤新材、鼎龙股份、太紫微等。恒坤新材生产的KrF光刻胶可用于128层及以上3D NAND芯片制备过程中。
受益于3D NAND行业发展速度加快，3D NAND光刻胶应用需求日益旺盛。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，日韩国家占据全球3D NAND光刻胶市场主导地位。未来伴随国家政策支持以及技术进步，我国3D NAND光刻胶行业发展态势将持续向好。